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直径100mm直流电弧等离子喷射CVD金刚石设备

时间:2018-10-14 12:08:54 浏览:326次

河北省激光研究所自1992年开始从事CVD金刚石制备技术的相关研究,曾先后承担了“八五”、“九五”、“十五”期间国家“863”计划项目和多项河北省科技支撑计划、河北省重大技术创新等项目,开发了具有独立知识产权的直流电弧等离子体喷射CVD金刚石设备及工艺,取得的相关科技成果分别获得河北省科技进步一等奖1项、二等奖2项、三等奖4项,专利授权5项。

目前,直径100mm直流电弧等离子体喷射CVD金刚石设备的研制成功,将金刚石膜的沉积面积由原来的直径65mm扩大到100mm,大大提高了单台设备的生产能力,降低了单位体积的能耗水平和生产成本。同时,大面积高质量CVD金刚石的成功制备也将激发CVD金刚石潜在的应用市场。

成果照片: 

 

 

 

 

 

 

1  直径100mm CVD金刚石实物图

 

 

2  直径100mm直流电弧等离子喷射CVD金刚石设备