河北省激光研究所自1992年开始从事CVD金刚石制备技术的相关研究，曾先后承担了“八五”、“九五”、“十五”期间国家“863”计划项目和多项河北省科技支撑计划、河北省重大技术创新等项目，开发了具有独立知识产权的直流电弧等离子体喷射CVD金刚石设备及工艺，取得的相关科技成果分别获得河北省科技进步一等奖1项、二等奖2项、三等奖4项，专利授权5项。
目前，直径100mm直流电弧等离子体喷射CVD金刚石设备的研制成功，将金刚石膜的沉积面积由原来的直径65mm扩大到100mm，大大提高了单台设备的生产能力，降低了单位体积的能耗水平和生产成本。同时，大面积高质量CVD金刚石的成功制备也将激发CVD金刚石潜在的应用市场。
成果照片：
图1 直径100mm CVD金刚石实物图
图2 直径100mm直流电弧等离子喷射CVD金刚石设备